取得特許　　　　　いさお工房
（日本真空技術（株）勤務時代）
１．特許７０６３１１［Ｓ４８．１０．１７］　発明者　連名
　　名称　チタニウムーニオブ基の３元合金からなる超伝導材料
２．特許６７４１５１［Ｓ４８．１．２４］　発明者　連名
　　名称　チタニウムーニオブ基の合金からなる超伝導材料
３．特許１０１１６３４［Ｓ５５．８．２９］　発明者　徳　昭彦（悳　昭彦と同一人，悳は徳の古字です。）
　　名称　超伝導体コイルの製造方法
４．特許１１３１４７４［Ｓ５８．１．７］　発明者　連名
　　名称　熱線遮断型スクリーン装置
５．特許９９１０８４［Ｓ５５．３．２７］　発明者　いさお　昭彦
　　名称　薄膜形成装置における膜厚監視装置
６．特許１０３２２６２［Ｓ５６．１．２９］　発明者　とく　昭彦
　　名称　薄膜形成装置における膜厚監視装置
７．特許１１１７５７３［Ｓ５７．１０．１５］　発明者　徳　昭彦
　　名称　薄膜形成装置における膜厚監視方法
８．特許１１５７０９９［Ｓ５８．　７．１５］　発明者　徳　昭彦
　　名称　薄膜形成装置における膜厚制御方法
９．特許１２０９３１３［Ｓ５９．５．２９］　発明者　連名
　　名称　管内面コーティング方法
１０．特許１１９９１９７［Ｓ５９．４．　５］　発明者　徳　昭彦
　　名称　管内面コーティング装置における張力制御装置
１１．特許１２９１０４１［Ｓ６０．１１．２９］　発明者　徳　昭彦
　　名称　管内面コーティング装置の制御方法
１２．特許１２８４９５４［Ｓ６０．１０．　９］
　　名称　真空蒸着多層膜形成装置
１３．特許１３７５７５０［Ｓ６２．４．２２］　発明者　徳　昭彦
　　名称　薄膜形成装置における膜厚監視装置
１４．特許１３２９５０４［Ｓ５６．１２．２９］　発明者　徳　昭彦
　　　名称　反応蒸着によって不均質薄膜を形成する方法
１５．特許１３７０５９３［Ｓ６２．３．２５］　発明者　徳　昭彦
　　　名称　真空蒸着多層膜形成装置
１６．特許１３９７０５１［Ｓ６２．８．２４］　発明者　徳　昭彦
　　　名称　多層薄膜形成装置における膜厚監視装置
１７．特許１６４７９７７［Ｈ　４．　３．１３］　発明者　徳　昭彦
　　　名称　不均質光学膜形成装置における膜特性監視装置

（アルバック成膜（株）勤務時代）
１８．特許１５０４２９９［平　１．　６．２８］　発明者　連名
　　　名称　太陽熱集熱用選択吸収膜の製造法
１９．特許１３２９５００［昭６１．　７．３０］　発明者　連名
　　　名称　二元蒸着によって不均質光学的薄膜を形成する方法
２０．特許１２５７５１６［昭６０．３．２９］　発明者　連名
　　　名称　反応蒸着によって不均質光学的薄膜を形成する方法
２１．特許１９２３３９０［平　７．４．２５］　発明者　連名
　　　名称　フォトマスクおよびその製造方法
２２．特許１９２３３９１［平　７．４．２５］　発明者　連名
　　　名称　フォトマスクおよびその製造方法
２３．特許２６４８１６７［平　９．５．　９］　発明者　悳　昭彦
　　　名称　プラズマ電子ビーム加熱装置
２４．特許３０００３０３［平１１．１１．１２］　発明者　悳　昭彦
　　　名称　真空蒸着装置における光学定数と膜厚の測定方法及び測定装置
２５．特許２９９２８３９［平１１．１０．２２］　発明者　悳　昭彦
　　　光学定数と膜厚の測定方法及装置
２６．特許３２６１６５９［平１３．１２．２１］　発明者　悳　昭彦
　　　名称　ドライエッチング装置に於けるエッチング監視方法及び装置
２７．特許３２６１６６０［平１３．１２．２１］　発明者　悳　昭彦
　　　名称　ドライエッチングにおけるエッチングモニター方法
２８．特許３１７７５５２［平１３．　４．　６］　発明者　連名
　　　名称　フォトマスク用ドライエッチング装置
２９．特許３３５５４４４［平１４．１０．　４］　発明者　連名
　　　名称　フォトマスクのドライエッチング方法
３０．特許３２５６３４５［平１３．１１．３０］　発明者　連名
　　　名称　フォトマスクブランクスおよびフォトマスク
３１．特許３２７０９５０［平１４．　１．２５］　発明者　連名
　　　名称　位相シフトフォトマスクブランクス生産方法
３２．特許3270951［平１４．　１．２５］　発明者　連名
　　　名称　位相シフトフォトマスクの位相差調整方法
３３．特許３３５５４４５［平１４．１０．　４］　発明者　連名
　　　名称　位相シフトフォトマスクブランクス生産方法
３４．特許３４０１０５８［平１５．　２．２１］　発明者　連名
　　　名称　薄膜の光学的特性測定方法及びその装置
３５．特許３５９４６５９［平１６．　９．　８］　発明者　連名
　　　名称　位相シフトフォトマスクブランクス製造方法，位相シフトフォトマスクブランクス