研究・開発歴　　　　　　　　　いさお工房
（日本真空技術（株）勤務時代）
１９６６年〜１９７２年　「Ｔｉ−Ｎｂ，Ｎｂ３（Ａｌ−Ｇｅ），Ｖ３Ｇａ等超伝導材料の開発研究」
　　　　　　　　　　　　　（新技術開発事業団からの開発委託）
１９７３年〜１９８２年　「光学的多層干渉薄膜を用いた熱線遮断窓用カーテン等の
　　　　　　　　　　　　　　量産方式に関する応用研究・工業化試験及び追加試験」　
　　　　　　　　　　　　　　（通産省工業技術院　重要技術研究開発補助金関係）

　　　　　　　　　　　　　　この頃，光学膜計算プログラム作成開始

１９７６年〜１９８２年　「被覆管内面腐食低減法の開発」
　　　　　　　　　　　　　　（動力炉核燃料開発事業団の委託により実施）
１９８０年〜１９８２年　「太陽熱集熱器用選択吸収膜の作成」
　　　　　　　　　　　　　　（アルバック成膜研究開発協力）
１９７８年〜１９８２年　通産省工業技術院委託「省エネルギー用建材及設備等の標準化に関する
　　　　　　　　　　　　　　調査研究」の委員会委員として建材試験センターに協力

（アルバック成膜（株）勤務時代）
１９８２年〜１９８３年　カナダ中央銀行のＯＳＤ（オプチカル・セキュリティー・デバイス）と呼ばれる紙幣偽造防止技術開発プロジェクトでＵＬＶＡＣに協力。自作の光学膜計算プログラムによって光学膜の計算と膜設計を行って見た。この技術について公表されているものについては、下記のものがあります。
　清水　昭，”紙幣の偽造防止に使われた薄膜”，ＵＬＶＡＣ　ＴＥＣＨＮＩＣＡＬ　ＪＯＵＲＮＡＬ，Ｎｏ．３５，
５６−５７（１９９０），　真空タイムス，１９９０．１．１，　ＵＬＶＡＣ，ＮＯ．１６，（１９９０年２月）。
この技術は、Ｊ．Ａ．　Ｄｏｂｒｏｗｏｌｓｋｉ等によって、提唱されたもので、下記の文献に詳しい。
　Ｊ．Ａ．Ｄｏｂｒｏｗｏｌｓｋｉ，Ｆ．Ｃ．Ｈｏ，ａｎｄ　Ａ．Ｗａｌｄｏｒｆ，”Ｒｅｓｅａｒｃｈ　ｏｎ　ｔｈｉｎ　ａｎｔｉｃｏｕｎｔｅｒｆｅｉｔｉｎｇ　
ｃｏａｔｉｎｇｓ　ａｔ　ｔｈｅ　Ｎａｔｉｏｎａｌ　Ｒｅｓｅａｒｃｈ　Ｃｏｕｎｃｉｌ　ｏｆ　Ｃａｎａｄａ”，Ａｐｐｌｉｅｄ　Ｏｐｔｉｃｓ，　Ｖｏｌ．２８，Ｎｏ．１４，２７０２−２７１７（１９８９），その他。

１９８５年〜１９８４年　反応性真空蒸着法によって長尺Ａｌ箔に選択吸収膜をコーテイングした
　　　　　　　　　　　　　　素材を提供する事で，通産省の「新住宅開発プロジェクト研究開発
　　　　　　　　　　　　　　委託事業」に参加
１９８５年〜１９８７年　フォトマスクブランクスの開発
１９８６年〜１９９０年　イオンプレーテイング用ホローカソード蒸発源の開発

１９９０年〜１９９１年　光学定数の解析プログラムの作成開始

１９９１年〜１９９３年　フォトマスク用ドライエッチング装置とモニター装置の開発
１９９３年〜２０００年　フォトマスクブランクスとハーフトーン位相シフトマスクブランクスの開発