論文等 いさお工房
（日本真空技術（株）勤務時代）
1) A. Isao, T. Noguchi, Y. Uchida, and A. Kono, " Formation of Superconducting
Nb3Al and Nb3Al-Ge Films ", J. Vacuum Science and Technology,Vol.7,No.6,S57-S62(1970)
2) 悳 昭彦，野口 照夫，内田 義昭，河野 昌，”超伝導金属間化合物Ｎｂ３Ａｌ及びＮＢ３（Ａｌ－Ｇｅ）の生成”，低温工学，Ｖｏｌ．６，Ｎｏ．５，１９０－２０７（１９７１）
３） 悳 昭彦，展望 ”極低温における超伝導材料開発への一考”超低温技術，Ｖｏｌ．３，Ｎｏ．４，３９－４４（１９７３）
４） 悳 昭彦，”太陽光を涼しく柔らかい光に変える透明日よけカーテン等の開発”，工業技術，Ｖｏｌ．１６，Ｎｏ．１２，４１－４５（１９７５）
５） 悳 昭彦，”光学的多層干渉薄膜の量産方式の開発とその応用”，ＩＯＮＩＣＳ（アイオニクス），１１月号，１８ー２４（１９７６）
6) A. Isao, and K. Nakamura,"Vacuum Deposition of Multilayer Interference
Films on Long Flexible
Plastic Films for Solar Heat Reflection ", Proc.7th Intern.Vac.Congr.&
3rd Intern.Conf.Solid Surfaces(Vienna1977),1571-1574
７） 悳 昭彦，研究報告 ”光学的多層干渉薄膜の量産方式の開発とその応用”，オプトエレクトロニクス，Ｖｏｌ．１，Ｎｏ．１０，９－１５（１９７７）
８） 悳 昭彦，鈴木 功雄，中村 一男，研究 ”光学的多層干渉薄膜の量産方式”、真空，Ｖｏｌ．２１，Ｎｏ．１０，３４３－３５１（１９７８）
（アルバック成膜（株）勤務時代）
９） 悳 昭彦，”光学膜被覆プラスチックフィルムおよび金属箔”，ＶＭＣジャーナル，Ｎｏ．４，１１－１８（１９８３）
１０）（資料） 昭和アルミニウム（株）住宅資材事業部企画部，アルバック成膜（株）開発技術室担当，
分類Ｎｏ．９，一般名称／選択吸収膜付素材，
昭和５９年度新住宅開発プロジェクト研究開発委託事業，太陽エネルギー利用住宅システム
”要素技術ガイドブック”，通商産業省 ２１ー２２（１９８４）
11) S. Saito, S. Kawada, T. Yamamoto, A. Hayashi, A. Isao, Y. Tokoro, "Attenuated
phase shift mask blanks with oxide or oxi-nitride of Cr or MoSi absorptive
shifter", Proc. SPIE Vol.2254, Photomask and X-Ray Mask Technology,
60-63(1994)
13) Y. Tokoro, S. Kawada, T. Yamamoto, Y. Saito, A. Hayashi, and A. Isao,"Attenuated
Phase Shift Mask Blanks for Deep Ultra Violet", Proc. SPIE, Vol.2322,
Photomask Technology and Management, 387-391(1994)
１４） 悳 昭彦，”ハーフトーン位相シフトマスクブランクス”、ＵＬＶＡＣ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｊｏｕｒｎａｌ，
Ｎｏ．４６，４８－５９（１９９７）
（著書）
１５） 各種薄膜作成技術における諸問題及びトラブル対策 ――総合技術資料集――
企画・発行 経営開発センター出版部（１９８５）の下記（ｐｐ．１９７－２７４）執筆担当
記
第Ⅳ章 ［１］膜厚の制御技術
１・１ 膜厚および集積速度の測定と制御
１・２ レイトモニターと膜厚制御
１・３ 膜厚モニターと膜厚制御
１・４ 膜厚分布の制御
１・５ 光学膜の膜厚制御
１・６ 不均質光学薄膜の組成勾配と膜厚制御
１・７ ロールコーターにおける膜厚制御
１・８ スパッタリング装置における膜厚制御
おわりに
１６） 日本真空協会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会編
「生産現場・開発現場において役立つ 薄膜作成技術」，
発行 リアライズ理工センター／リアライズＡＴ（株）（２００６年１１月３０日発刊）の下記の一部分執筆担当，アルバック成膜（株）佐々木貴英氏が主執筆者
記
第４章 応用技術
第４節 光学膜
３．フォトマスクブランクス
１．フォトリソグラフィ技術とフォトマスク
２．フォトマスクブランクスの技術［バイナリー型／位相シフト型］