論文等 いさお工房
(日本真空技術(株)勤務時代)
1) A. Isao, T. Noguchi, Y. Uchida, and A. Kono, " Formation of Superconducting
Nb3Al and Nb3Al-Ge Films ", J. Vacuum Science and Technology,Vol.7,No.6,S57-S62(1970)
2) 悳 昭彦,野口 照夫,内田 義昭,河野 昌,”超伝導金属間化合物Nb3Al及びNB3(Al−Ge)の生成”,低温工学,Vol.6,No.5,190−207(1971)
3) 悳 昭彦,展望 ”極低温における超伝導材料開発への一考”超低温技術,Vol.3,No.4,39−44(1973)
4) 悳 昭彦,”太陽光を涼しく柔らかい光に変える透明日よけカーテン等の開発”,工業技術,Vol.16,No.12,41−45(1975)
5) 悳 昭彦,”光学的多層干渉薄膜の量産方式の開発とその応用”,IONICS(アイオニクス),11月号,18ー24(1976)
6) A. Isao, and K. Nakamura,"Vacuum Deposition of Multilayer Interference
Films on Long Flexible
Plastic Films for Solar Heat Reflection ", Proc.7th Intern.Vac.Congr.&
3rd Intern.Conf.Solid Surfaces(Vienna1977),1571-1574
7) 悳 昭彦,研究報告 ”光学的多層干渉薄膜の量産方式の開発とその応用”,オプトエレクトロニクス,Vol.1,No.10,9−15(1977)
8) 悳 昭彦,鈴木 功雄,中村 一男,研究 ”光学的多層干渉薄膜の量産方式”、真空,Vol.21,No.10,343−351(1978)
(アルバック成膜(株)勤務時代)
9) 悳 昭彦,”光学膜被覆プラスチックフィルムおよび金属箔”,VMCジャーナル,No.4,11−18(1983)
10)(資料) 昭和アルミニウム(株)住宅資材事業部企画部,アルバック成膜(株)開発技術室担当,
分類No.9,一般名称/選択吸収膜付素材,
昭和59年度新住宅開発プロジェクト研究開発委託事業,太陽エネルギー利用住宅システム
”要素技術ガイドブック”,通商産業省 21ー22(1984)
11) S. Saito, S. Kawada, T. Yamamoto, A. Hayashi, A. Isao, Y. Tokoro, "Attenuated
phase shift mask blanks with oxide or oxi-nitride of Cr or MoSi absorptive
shifter", Proc. SPIE Vol.2254, Photomask and X-Ray Mask Technology,
60-63(1994)
13) Y. Tokoro, S. Kawada, T. Yamamoto, Y. Saito, A. Hayashi, and A. Isao,"Attenuated
Phase Shift Mask Blanks for Deep Ultra Violet", Proc. SPIE, Vol.2322,
Photomask Technology and Management, 387-391(1994)
14) 悳 昭彦,”ハーフトーン位相シフトマスクブランクス”、ULVAC Technical Journal,
No.46,48−59(1997)
(著書)
15) 各種薄膜作成技術における諸問題及びトラブル対策 ――総合技術資料集――
企画・発行 経営開発センター出版部(1985)の下記(pp.197−274)執筆担当
記
第W章 [1]膜厚の制御技術
1・1 膜厚および集積速度の測定と制御
1・2 レイトモニターと膜厚制御
1・3 膜厚モニターと膜厚制御
1・4 膜厚分布の制御
1・5 光学膜の膜厚制御
1・6 不均質光学薄膜の組成勾配と膜厚制御
1・7 ロールコーターにおける膜厚制御
1・8 スパッタリング装置における膜厚制御
おわりに
16) 日本真空協会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会編
「生産現場・開発現場において役立つ 薄膜作成技術」,
発行 リアライズ理工センター/リアライズAT(株)(2006年11月30日発刊)の下記の一部分執筆担当,アルバック成膜(株)佐々木貴英氏が主執筆者
記
第4章 応用技術
第4節 光学膜
3.フォトマスクブランクス
1.フォトリソグラフィ技術とフォトマスク
2.フォトマスクブランクスの技術[バイナリー型/位相シフト型]