研究・開発歴 いさお工房
(日本真空技術(株)勤務時代)
1966年〜1972年 「Ti−Nb,Nb3(Al−Ge),V3Ga等超伝導材料の開発研究」
(新技術開発事業団からの開発委託)
1973年〜1982年 「光学的多層干渉薄膜を用いた熱線遮断窓用カーテン等の
量産方式に関する応用研究・工業化試験及び追加試験」
(通産省工業技術院 重要技術研究開発補助金関係)
この頃,光学膜計算プログラム作成開始
1976年〜1982年 「被覆管内面腐食低減法の開発」
(動力炉核燃料開発事業団の委託により実施)
1980年〜1982年 「太陽熱集熱器用選択吸収膜の作成」
(アルバック成膜研究開発協力)
1978年〜1982年 通産省工業技術院委託「省エネルギー用建材及設備等の標準化に関する
調査研究」の委員会委員として建材試験センターに協力
(アルバック成膜(株)勤務時代)
1982年〜1983年 カナダ中央銀行のOSD(オプチカル・セキュリティー・デバイス)と呼ばれる紙幣偽造防止技術開発プロジェクトでULVACに協力。自作の光学膜計算プログラムによって光学膜の計算と膜設計を行って見た。この技術について公表されているものについては、下記のものがあります。
清水 昭,”紙幣の偽造防止に使われた薄膜”,ULVAC TECHNICAL JOURNAL,No.35,
56−57(1990), 真空タイムス,1990.1.1, ULVAC,NO.16,(1990年2月)。
この技術は、J.A. Dobrowolski等によって、提唱されたもので、下記の文献に詳しい。
J.A.Dobrowolski,F.C.Ho,and A.Waldorf,”Research on thin anticounterfeiting
coatings at the National Research Council of Canada”,Applied Optics, Vol.28,No.14,2702−2717(1989),その他。
1985年〜1984年 反応性真空蒸着法によって長尺Al箔に選択吸収膜をコーテイングした
素材を提供する事で,通産省の「新住宅開発プロジェクト研究開発
委託事業」に参加
1985年〜1987年 フォトマスクブランクスの開発
1986年〜1990年 イオンプレーテイング用ホローカソード蒸発源の開発
1990年〜1991年 光学定数の解析プログラムの作成開始
1991年〜1993年 フォトマスク用ドライエッチング装置とモニター装置の開発
1993年〜2000年 フォトマスクブランクスとハーフトーン位相シフトマスクブランクスの開発